清洗高精密工業(yè)器件的超純水可以采用何種工藝生產(chǎn)

時(shí)間：2024-05-20

　　自改革開放以來，我國科技獲得了飛速發(fā)展，在很多高精尖企業(yè)都取得了各項(xiàng)重要成果，特別是航空航天和電子信息兩大領(lǐng)域中取得了令世界矚目的成就。當(dāng)前，我國已經(jīng)是高科技生產(chǎn)水平比較領(lǐng)先的國家，各類高精密工業(yè)器件生產(chǎn)制造水平居于世界前列，出口貿(mào)易相當(dāng)發(fā)達(dá)。像半導(dǎo)體芯片、太陽能光伏、二極管、LED產(chǎn)品等生產(chǎn)制造，我國都已經(jīng)掌握了成熟的技術(shù)，生產(chǎn)已經(jīng)趨于自動(dòng)化和大規(guī)模化。

　　這些精密工業(yè)器件的清洗往往需要采用純度高的超純水，這是因?yàn)槌兯某煞种袔缀踔缓兴肿?，不含任何雜質(zhì)。應(yīng)用超純水清洗這些精密度高的工業(yè)器件不會(huì)對它們的功能造成影響，避免了顆粒雜質(zhì)、有機(jī)物、金屬離子等物質(zhì)對其造成污染。

EDI超純水設(shè)備

　　超純水的生產(chǎn)需要EDI超純水設(shè)備來完成，該設(shè)備采用了雙級反滲透系統(tǒng)+EDI模塊的處理工藝，能確保生產(chǎn)出的超純水電阻率可達(dá)16 MΩ*cm(25℃)。經(jīng)過雙級反滲透系統(tǒng)的處理，水中的各種有機(jī)物、無機(jī)鹽、金屬離子、固體顆粒雜質(zhì)、細(xì)菌等物質(zhì)基本都會(huì)被反滲透膜有效截留。反滲透膜孔徑小、抗污染能力強(qiáng)、孔隙率高，是EDI超純水設(shè)備中的優(yōu)勢技術(shù)。

　　此外，EDI模塊強(qiáng)化了EDI超純水設(shè)備的環(huán)保性能。該工藝段不會(huì)產(chǎn)生任何酸堿廢液，規(guī)避了酸堿中和反應(yīng)易發(fā)生的環(huán)境污染問題。EDI進(jìn)水一般是二級反滲透水，水質(zhì)很好，EDI脫鹽后的濃水水質(zhì)仍舊比一級反滲透水質(zhì)要好，可以回流到一級反滲透水箱。

　　總而言之，EDI超純水設(shè)備具有生產(chǎn)速度快、脫鹽率高、雜質(zhì)去除率高、自動(dòng)化強(qiáng)、生產(chǎn)無污染等優(yōu)勢，在工業(yè)超純水生產(chǎn)的各類產(chǎn)品中具有很大的競爭優(yōu)勢，發(fā)展空間非常廣闊。

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　　編輯：新奇技術(shù)：加菲

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